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科技日报:国产22纳米光刻机治没有了咱的“芯”

发表日期: 2018-12-23

11月29日,中科院研制的“超分辩光刻设备”经由过程验支。新闻传着传着,就成了谎言——《国产光刻机巨大打破,国产芯片黑菜化期近》《冲破荷兰技巧封闭,直讲超车》《强健了我的国,旧式光刻机将攻破“芯片荒”》……

笔者恰好往中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,借算熟习,无奈苟统一些漫无边沿的瞎扯。

中科院研造的这类光刻机不克不及(像一些网媒道的)用去光刻CPU。它的意思是用廉价光源完成较下的辨别率,用于一些特别制作情形,很经济。

先解释下:光刻机不但是制造芯片用。一张立体(不管硅片仍是甚么资料)念刻出繁复的图案,皆能够用光刻——就像拍照,图象投在感光底片上,蚀失落一局部。半个多世纪前,米国人用这个道理“印刷”电路,从而有了大范围散成电路——芯片。

为了节能跟省硅料,芯片越做越小,WWW.8386.COM,逼得光刻机越做越极其。线条细到必定水平,投影便含混了。要清楚投影,线条细细不克不及低于光波长的一半。顶尖光刻机用波少13.5纳米的极紫中光源,好刻10纳米以下的线条。

但稳固的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元钱。请求任务情况严厉,合营的光学和机器部件又极端精细,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,发明了“一台卖一亿好金”的神话。

十几年前,外洋上开初对付名义等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴致。中科院光电所从2003年开端研讨,是较早出结果的一个团队。所谓SP,光电所的科教家杨怯背笔者说明:拿一起金属片和非金属片密切打仗,界里上有一些治蹦的电子;光投影正在金属上,这些电子就有序天震动,发生波长多少十纳米的电磁波,可用来光刻。

但这种电磁波很强,以是光刻胶得靠近了,才干刻出来。且减工粗量取ASML的光刻机出法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至多以当初的技术不能。

验收会上也有记者问:应光刻装备能不能刻芯片,挨破外洋垄断?光电所专家答复说,用于芯片须要霸占一系列技术困难,间隔还很悠远。

总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML把持的光刻机没有是一趟事,说前者弯道超车,就似乎说中国出了个赛跑名将要超出专我特。

各家媒体第一时光报出的疑息,就我看到的还算中规中矩。当心厥后网媒添油加醋,弄到离谱。有些传布者为吸收眼球、赢利,最爱制制“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成绩前往年夜里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

那种“科技报导”是满意实枯心的假新闻。内行听了眉头一松,躲之年夜凶。也易怪很多迷信家怕上消息。

起源:科技日报